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产品展示 |
当前位置:首页 > 半导体前处理 |
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安赛斯可编程匀胶机HC160PE |
名 称:安赛斯可编程匀胶机HC160PE 型 号:HC160PE 原产地: 应 用:在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。
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安赛斯可编程匀胶机HC150PE |
名 称:安赛斯可编程匀胶机HC150PE 型 号:HC150PE 应 用:在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。
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安赛斯程控顶针烤胶机/热板HCH300P |
名 称:安赛斯程控顶针烤胶机/热板HCH300P 型 号:HCH300P 应 用:安赛斯程控顶针烤胶机/热板HCH300P是一种设计为精确控温、准确计时和接近式加热的高性能实验室设备,可实现智能化编程烤胶控制。 |
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安赛斯可编程匀胶机HC150SE |
名 称:安赛斯可编程匀胶机HC150SE 型 号:HC150SE 应 用:HC150SE匀胶机,采用高级PLC 全自动程序控制,转速精度高,稳定性好。可用于微电子、半导体、新能源、生物材料、纳米材料等领域高精度薄膜涂层的制备。 |
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安赛斯可编程匀胶机HC160SE |
名 称:安赛斯可编程匀胶机HC160SE 型 号:HC160SE 应 用:在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。 |
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安赛斯可编程匀胶机HC220SE |
名 称:安赛斯可编程匀胶机HC220SE 型 号:HC220SE 原产地: 应 用:HC220SE高精度匀胶机,采用高级PLC 模块,工业级伺服电机,全自动程序控制,转速精度高,稳定性好。可用于微电子、半导体、新能源、生物材料、纳米材料等领域高精度薄膜涂层的制备。 |
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安赛斯程控伺服匀胶机HC220PE |
名 称:安赛斯程控伺服匀胶机HC220PE 型 号:HC220PE 应 用:适合8英寸及以下尺寸旋涂的安赛斯程控伺服匀胶机是一种小型、灵活和经济的旋转匀胶设备,它可以实现价值百万美元设备(track)的上才可能达到稳定性和均匀性。 |
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SC200-SE高精密匀胶机 |
名 称:高精密匀胶机 型 号:SC200-SE 原产地: 应 用: SC200-SE精密匀胶机是一种小型、灵活和经济的旋转匀胶设备,它可以实现价值百万美元设备(track)的上才可能达到稳定性和均匀性。
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SC100-DE匀胶显影机 |
名 称:匀胶显影机 型 号:SC100-DE 原产地: 应 用:SC100-DE匀胶显影机是一种既可用于精密匀胶操作,又可用于半导体显影和清洗的台面式设备,它可以实现价值百万美元设备(track)的上才可能达到稳定性和均匀性。
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SC-CTM定制大尺寸匀胶机 |
名 称:定制大尺寸匀胶机 型 号:SC-CTM 原产地: 应 用:专业定制各种特种规格,超大、超重尺寸精密匀胶机,以满足不同实验和生产需要。如尺寸在200mm*150mm*25mm的石英玻璃基底材料,超高涂胶均匀性目标要求。
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SC200-DE匀胶显影机 |
名 称:匀胶显影机 型 号:SC200-DE 原产地: 应 用:SC200-DE匀胶显影机是一种既可用于精密匀胶操作,又可用于半导体显影和清洗的台面式设备,它可以实现价值百万美元设备(track)的上才可能达到稳定性和均匀性。
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HCV400无油真空泵 |
名 称:无油真空泵 型 号:HCV400 原产地: 应 用:HCV400高性能无油真空泵是一种隔膜真空泵,极限真空压力大于0.08MPa,抽气速度达20L/min,电机功率160W,是一款使用效率高,使用寿命长,耐腐蚀程度高,设计新颖的无油真空泵。
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