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| 产品展示 |
当前位置：首页 > 半导体前处理 |
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安赛斯可编程匀胶机HC160PE |
名 称：安赛斯可编程匀胶机HC160PE
型 号：HC160PE
原产地：
应 用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。
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安赛斯可编程匀胶机HC150PE |
名 称：安赛斯可编程匀胶机HC150PE
型 号：HC150PE
应 用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。
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安赛斯程控顶针烤胶机/热板HCH300P |
名 称：安赛斯程控顶针烤胶机/热板HCH300P
型 号：HCH300P
应 用：安赛斯程控顶针烤胶机/热板HCH300P是一种设计为精确控温、准确计时和接近式加热的高性能实验室设备，可实现智能化编程烤胶控制。 |
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安赛斯可编程匀胶机HC150SE |
名 称：安赛斯可编程匀胶机HC150SE
型 号：HC150SE
应 用：HC150SE匀胶机，采用高级PLC 全自动程序控制，转速精度高，稳定性好。可用于微电子、半导体、新能源、生物材料、纳米材料等领域高精度薄膜涂层的制备。 |
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安赛斯可编程匀胶机HC160SE |
名 称：安赛斯可编程匀胶机HC160SE
型 号：HC160SE
应 用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。 |
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安赛斯可编程匀胶机HC220SE |
名 称：安赛斯可编程匀胶机HC220SE
型 号：HC220SE
原产地：
应 用：HC220SE高精度匀胶机，采用高级PLC 模块，工业级伺服电机，全自动程序控制，转速精度高，稳定性好。可用于微电子、半导体、新能源、生物材料、纳米材料等领域高精度薄膜涂层的制备。 |
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安赛斯程控伺服匀胶机HC220PE |
名 称：安赛斯程控伺服匀胶机HC220PE
型 号：HC220PE
应 用：适合8英寸及以下尺寸旋涂的安赛斯程控伺服匀胶机是一种小型、灵活和经济的旋转匀胶设备，它可以实现价值百万美元设备（track）的上才可能达到稳定性和均匀性。 |
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SC200-SE高精密匀胶机 |
名 称：高精密匀胶机
型 号：SC200-SE
原产地：
应 用： SC200-SE精密匀胶机是一种小型、灵活和经济的旋转匀胶设备，它可以实现价值百万美元设备（track）的上才可能达到稳定性和均匀性。
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SC100-DE匀胶显影机 |
名 称：匀胶显影机
型 号：SC100-DE
原产地：
应 用：SC100-DE匀胶显影机是一种既可用于精密匀胶操作，又可用于半导体显影和清洗的台面式设备，它可以实现价值百万美元设备（track）的上才可能达到稳定性和均匀性。
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SC-CTM定制大尺寸匀胶机 |
名 称：定制大尺寸匀胶机
型 号：SC-CTM
原产地：
应 用：专业定制各种特种规格，超大、超重尺寸精密匀胶机，以满足不同实验和生产需要。如尺寸在200mm*150mm*25mm的石英玻璃基底材料，超高涂胶均匀性目标要求。
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SC200-DE匀胶显影机 |
名 称：匀胶显影机
型 号：SC200-DE
原产地：
应 用：SC200-DE匀胶显影机是一种既可用于精密匀胶操作，又可用于半导体显影和清洗的台面式设备，它可以实现价值百万美元设备（track）的上才可能达到稳定性和均匀性。
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HCV400无油真空泵 |
名 称：无油真空泵
型 号：HCV400
原产地：
应 用：HCV400高性能无油真空泵是一种隔膜真空泵，极限真空压力大于0.08MPa，抽气速度达20L/min，电机功率160W，是一款使用效率高，使用寿命长，耐腐蚀程度高，设计新颖的无油真空泵。
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